Использование литографии позволило сделать наноматериалы с разрешением в 10 нм

Новый метод позволяет создавать наноматериалы с точностью менее 10 нанометров. Это может проложить путь к быстрой и энергоэффективной электронике.
Использование литографии позволило сделать наноматериалы с разрешением в 10 нм
Unsplash

Исследователи Датского технологического университета подняли искусство создания моделирования двумерных наноматериалов на новый уровень. Создавая изящные узоры на этих материалах, мы можем кардинально изменить их свойства и создать именно то, что нам нужно.

Наиболее известный представитель наноматериалов — графен. Он прочнее, легче и лучше проводит тепло и электричество, чем любой другой известный материал.

РЕКЛАМА – ПРОДОЛЖЕНИЕ НИЖЕ

В Датском технологическом университете ученые более десяти лет работали над совершенствованием технологии формирования 2D-материалов с помощью литографии. Их система электронно-лучевой литографии может «записывать» детали размером до 10 нанометров. Предварительные компьютерные вычисления могут точно предсказать размер и форму рисунков в графене для создания новых типов электроники.

Однако для прорыва в квантовой электронике нужно опуститься ниже 10 нанометров — приблизиться к атомному масштабу.

«В 2019 году мы показали, что круглые отверстия, размещенные с шагом всего в 12 нанометров, превращают полуметаллический графен в полупроводник. Теперь нам известно, как создавать круглые и треугольные отверстия. Такие узоры имеют большое значение для спинтроники. С помощью этих сверхмалых структур становится возможно создавать очень компактные устройства для использования в биотехнологии и медицине», — объясняет Питер Бёггильд, руководитель научной группы.

РЕКЛАМА – ПРОДОЛЖЕНИЕ НИЖЕ

Хитрость заключается в том, чтобы поместить наноматериал из гексагонального нитрида бора поверх материала, на который требуется нанести рисунок. Ниже можно увидеть, какую маску накладывают учёные на графен.

Маска для литографии
Peter Bøggild, Lene Gammelgaard, Dorte Danielsen

Процесс травления, который разработали учёные в течение последних лет, удивителен — учёным удалось перейти ранее непреодолимый предел систем электронно-лучевой литографии, составляющий примерно 10 нанометров.